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單溫區(qū)PE-CVD系統(tǒng)采用高性能射頻電源，等離子體更穩(wěn)定；滑軌式結(jié)構(gòu)能使整個(gè)反應(yīng)腔室都處于輝光產(chǎn)生區(qū)；可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫功能；與傳統(tǒng)CVD相比較，生長(zhǎng)溫度更低。

1500單溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1500℃，溫度可達(dá)1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設(shè)備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，雙環(huán)密封技術(shù)，可應(yīng)用于CVD實(shí)驗(yàn)、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結(jié)、基片鍍膜等實(shí)驗(yàn)環(huán)境。

實(shí)驗(yàn)室回轉(zhuǎn)窯本裝置由控制中心，加熱爐主體，攪拌系統(tǒng)，平移裝置及進(jìn)氣系統(tǒng)組成

實(shí)驗(yàn)級(jí)單溫區(qū)立式管式爐 爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

微型立式管式爐TFV-1200-30-220是一款小型開啟式立式管式爐，其爐管直徑為φ30/50mm可選，適合于對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下吊燒和淬火。如果選用不同的配件與裝置搭配，其也可以當(dāng)作一款流化床立式管式爐來(lái)使用，可專門針對(duì)粉末表面沉積的CVD實(shí)驗(yàn)。

球管玻璃爐BG350以其特殊的設(shè)計(jì)和簡(jiǎn)便的操作，為實(shí)驗(yàn)室物料的分離純化工作提供了解決方案。根據(jù)配置的不同，可對(duì)小量物料進(jìn)行蒸餾、分餾、升華和冷凍干燥等分離操作。產(chǎn)品使用帶有導(dǎo)電涂層的石英管作為加熱元件，加熱快且易于觀察，可以將整個(gè)烘爐區(qū)域加熱到最高300℃。此外，透明的樣品區(qū)域便于進(jìn)行實(shí)時(shí)觀察，如果樣品有熱降解的跡象,可手動(dòng)中斷加熱過(guò)程。